中国 半導体用グラファイト蒸着装置 メーカー 工場 サプライヤー
私たちの従業員のほとんどは、カートリッジの技術研究、生産、販売サービスに長い間従事しており、アプリケーションテクノロジーの理論にユニークな洞察を得ています。 鉱業における金属製錬用のグラファイト製品, 強化用のグラファイト型, 工業炉向けの費用対効果の高い黒鉛 。 私たちの科学デザイン、専門的な製造、および優れたコストパフォーマンスが成功しました半導体用グラファイト蒸着装置国内ユーザーに好まれ、当社の販売ネットワークは全国に広がっています。 高品質は当社の一貫した原則であり、「一流のために改善し、努力し続ける」というエンタープライズの精神で、国内外の顧客のニーズを満たすよう努めています。 専門的で影響力のあるメーカーとして、私たちは「整合性が世界を獲得し、テクノロジーが主要なものである」という概念を遵守し、優れた製品、合理的な製品ミックス、スキーム設計、細心の構造、専門的で要求の厳しいテストを使用して、すべての顧客により良い製品を提供することを決意しています。 当社は、卓越性と革新へのコミットメントで知られています。 私たちのチームは、製品とサービスを改善するために常に革新しています。 私たちは社会的責任に強いコミットメントを持っており、地域社会の支援に積極的に関与しています。 当社はお客様に製品の迅速かつ効率的な配送を提供しています。
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![グラファイト半導体]()
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![グラファイトボックスボウル]()
グラファイトボックスボウル当社が製造したグラファイトボックスボウルは、工作機械処理によって作られています.この処理方法は不規則で多孔質の部品を処理でき、さまざまな複雑な構造に適しています.この方法の処理時間は、単一のピースの場合は2-5日であり、完成した製品は高次元精度{{3}.}.. {3} {3} {3} {3}.. {3 ^および研究開発テストシナリオ.もっと -
![グラファイト型]()
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![グラファイトコンポーネント]()
グラファイトコンポーネントグラファイトコンポーネントは、堆積炉で一般的に使用されるグラファイト型であり、化学蒸気堆積方法.により、グラファイト成分の表面にCコーティングとSICコーティングを調製できます。もっと -
![グラファイトベース容疑者]()
グラファイトベース容疑者MOCVDのSemicorex-SICコーティンググラファイト塩基容疑者は、半導体業界で使用される高品質のキャリア. sicコーティングされたグラファイト塩基受容体は、高温耐性、酸化抵抗、酸化耐性、高純度、および安定した物理的および化学的特性の特性を持っています{.もっと -
![ダイヤモンドコアビット用のグラファイトウォーターウェイ]()
ダイヤモンドコアビット用のグラファイトウォーターウェイグラファイト水路は、ダイヤモンドコアドリルビット{.に使用されます。グラファイト水路は、ダイヤモンドドリルビットの高温焼結プロセスに必要な重要なコンポーネントです.ドリルビットの形状とサイズを決定し、.}}.}もっと -
![グラファイトクリスタルライザー]()
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![黒鉛るつぼ]()
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![グラファイトコインモールド]()
グラファイトコインモールドコイン鋳造ダイの標準バージョンのサイズは 50mm x 50mm です。金属鋳造やジュエリーの製作に非常に適しています。銅、真鍮、亜鉛、銀、金、その他の貴金属に適しています。この金型は素晴らしいですね。もっと -
![グラファイトチューブ]()
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![イオン移植用のグラファイトスペアパーツ]()
イオン移植用のグラファイトスペアパーツイオン移植は、半導体生成の重要なプロセスです{.移植システムは、導電率や結晶構造などの材料特性を変更するための外来原子を備えたウェーファー.ビームパスはインプラントシステムの中心です.もっと -
![半導体プロセス用のグラファイト型部品]()
半導体プロセス用のグラファイト型部品半導体産業向けのグラファイト型は、優れた耐熱性、熱伝導率、低不純物含有量、イオンビーム腐食に対する耐性により、イオン移植およびプラズマエッチング装置で広く使用されています.もっと
デビッド・アレクサンダー
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